Beim Vakuumplasmaspritzen wird ein elektrischer Lichtbogen in einer Niederdruckatmosphäre erzeugt. Vor Prozessbeginn wird die Atmosphäre in der Vakuumkammer unter 0.1 mbar abgepumpt. Damit wird sichergestellt, dass reaktive Gase (Sauerstoff oder Wasserstoff) beim anschliessenden Beschichtungsprozess diesen nicht negativ beeinflussen. Wie beim atmosphärischen Plasmaspritzen werden die Spritzpulverpartikel in den Plasmastrahl injiziert, beschleunigt und aufgeschmolzen. Die aufgeschmolzenen Metallpartikel können in der VPS Atmosphäre nicht oxidieren. So entstehen hochreine Ti-Schichten auf den Oberflächen der Implantate.

 

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